Lithografie Imec erhält das weltweit modernste High-NA-EUV-System

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Mit dem EXE:5200 bringt Imec High-NA-EUV in den 300-mm-Reinraum. Die modernste Anlage ihrer Art soll am Forschungsinstitut die Basis dafür schaffen, Sub-2-nm-Logik und künftige Speichertechnologien schneller in industrienahe Prozesse zu überführen.

Das Imec hat für seine jüngst eröffnete 2.000 m² großen Reinraum-Erweiterung die Einweihung des ASML EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystems bekannt gegeben. Dabei handelt es sich nach Angaben des Forschungsinstituts und des niederländischen Herstellers für Halbleiterfertigungsmaschinerie um das derzeit modernste Lithografietool, das im Markt erhältlich ist.

Das High-NA-EUV-System ist direkt in eine umfassende Suite von Strukturierungs- und Metrologie-Tools und Materialien integriert und wird Imec und seinen Partnern im Ökosystem ermöglichen, die erforderliche Leistungsfähigkeit zu erschließen, um Pionierarbeit bei Sub-2-nm-Logik- und hochdichten Speichertechnologien zu leisten, die das rasante Wachstum fortschrittlicher KI und Hochleistungsrechner vorantreiben werden.

„Die letzten zwei Jahre markieren ein wichtiges Kapitel für die EUV-Lithografie mit hoher numerischer Apertur (0,55 NA), in dem Imec und ASML gemeinsam mit dem Ökosystem in ihrem gemeinsamen EUV-Lithografie-Labor mit hoher numerischer Apertur in Veldhoven (Niederlande) Pionierarbeit für die EUV-Technologie mit hoher numerischer Apertur geleistet haben,“ sagte Luc Van den hove, CEO von Imec, anlässlich der Einweihung. „Mit der Installation des EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystems in unserem 300-mm-Reinraum in Leuven (Belgien) wollen wir diese High-NA-EUV-Strukturierungstechnologien auf ein für die Industrie relevantes Level bringen und Anwendungsfälle für die High-NA-EUV-Strukturierung der nächsten Generation entwickeln. Die unübertroffene Auflösung, die verbesserte Overlay-Leistung, der hohe Durchsatz und ein neuer Wafer-Stocker, der die Prozessstabilität und den Durchsatz verbessert, werden unseren Partnern einen entscheidenden Vorteil bei der schnelleren Entwicklung von Chip-Technologien kleiner als 2 nm verschaffen. Während die Branche in das Ångström-Zeitalter eintritt, wird High-NA-EUV eine grundlegende Kompetenz sein, und Imec ist stolz darauf, eine Vorreiterrolle einzunehmen, indem es seinen Partnern den frühesten und umfassendsten Zugang zu dieser Technologie bietet.“

„Die Installation des EXE:5200 bei Imec markiert einen wichtigen Schritt in das Ångström-Zeitalter,“ ergänzte Christophe Fouquet, CEO von ASML. „Gemeinsam treiben wir die Weiterentwicklung von EUV-Technologie mit hoher numerischer Apertur (High NA) für die nächsten Generationen fortschrittlicher Speicher- und Rechentechnologie voran.“

Dieser Meilenstein ist ein zentraler Bestandteil der fünfjährigen strategischen Partnerschaft zwischen Imec und ASML, die von der EU (Chips Joint Undertaking und IPCEI), der flämischen Regierung und der niederländischen Regierung unterstützt wird. Luc Van den hove: „Als integraler Bestandteil der von der EU finanzierten NanoIC-Pilotlinie wird die Anlage in den kommenden Jahrzehnten eine entscheidende Rolle dabei spielen, Europas Position als führender Standort für die Forschung und Entwicklung im Bereich fortschrittlicher Halbleiter zu stärken.

Mit dem ASML EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystem im Reinraum von Imec positioniert sich Imec eindeutig als umfassendste Entwicklungseinrichtung für fortschrittliche Strukturierungsverfahren.

Die enge Zusammenarbeit von Imec mit führenden Chipherstellern, Ausrüstungs-, Material- und Resistlieferanten, Maskenherstellern sowie Messtechnik-Experten ermöglicht es uns, Lernzyklen zu beschleunigen und die Prozessstabilität zu verbessern, um modernste Strukturierungsverfahren für die Logik- und Speichertechnologie der nächsten Generation zu entwickeln und zu demonstrieren. Damit treiben wir bahnbrechende Innovationen voran, die die Zukunft des fortschrittlichen Computing und der KI in den kommenden Jahren prägen werden.“

Imec geht davon aus, dass das High NA EUV-Lithografiesystem EXE:5200 bis zum vierten Quartal 2026 vollständig qualifiziert sein wird. In der Zwischenzeit bleibt das gemeinsame ASML-Imec-Labor für High-NA-EUV-Lithografie in Veldhoven in Betrieb, wodurch die Kontinuität der Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten im Bereich High-NA-EUV für Imec und seine Partner im Ökosystem gewährleistet ist. (sg)

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