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Verbindungsglied: SuperVia verbindet zwei Metallschichten, ohne die Mittellage zu kontaktieren. (Bild: imec)

SuperVia: Auf dem Weg zum (Sub-)3nm-Technologieknoten

Tiefliegende Interconnects: Ein neues Verfahren zum vertikalen Kontaktieren übereinander liegender Leiterbahnen senkt den elektrischen Widerstand um 40% und ermöglicht eine 30%ige Flächenersparnis. Mit seinem „Proof of Concept“ eröffnet das imec-Institut neue Wege für zukünftiges Chipdesign.

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