Ein Forscherteam des Center for Van der Waals Quantum Solids am Institute for Basic Science stellt Prognosen zur Halbleitertechnologie der nächsten Generation in den Schatten. Es nutzt ein 1D-Metall mit einer Breite von nur 0,4 nm als Gate-Elektrode, um Einschränkungen des herkömmlichen Lithografieverfahrens zu überwinden.
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