Das Drahtbonden ist als Verbindungstechnik in der Halbleiterindustrie etabliert. Ob hochwertige und langlebige Verbindungen entstehen, hängt dabei entscheidend von der Sauberkeit der Bondoberflächen ab. Die Schneestrahltechnik sorgt prozesssicher und wirtschaftlich für die erforderliche Reinheit.
Schneestrahlreinigung: Durch das Zusammenspiel der vier Wirkmechanismen erfolgt die Reinigung effektiv und schnell sowie gleichzeitig schonend. Der automatisierte und in die Fertigung integrierbare Prozess gewährleistet homogene, reproduzierbare Ergebnisse.
(Bild: acp systems)
Als Standardverfahren zur elektrischen Kontaktierung in der Aufbau- und Verbindungstechnik hat sich das Drahtbonden seit 1970er-Jahren in einem breiten Anwendungsspektrum etabliert. Es reicht von der Halbleitertechnologie, Mikroelektronik und optischen Komponenten über Automobile, Consumer-Produkte, MEMS und Industriesensorik bis hin zu speziellen Aufgabenstellungen wie dem Bonden von Batteriezellen für die Elektromobilität, Akkuwerkzeuge und Energiespeicher.
„Grundsätzlich unterteilt sich das Drahtbonden in drei große Verfahrensgruppen. Zwei davon sind Dünndrahtverfahren, bei denen je nach Anwendung Drähte aus Gold, Silber, Aluminium oder Kuper mit einem Durchmesser von 18 bis 50 µm verarbeitet werden. Bei der dritten Gruppe handelt es sich um das Dickdrahtbonden mit Drahtdurchmessern von 100 bis 500 µm“, konkretisiert Stefan Schmitz, Geschäftsführer von Bond-IQ.
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Die Beratungsgesellschaft in der Drahtbondtechnik ist Initiator des Industrieprojekts Surf:Guide. Projektziel ist, einen Leitfaden zur Sauberkeit und dem Zustand von Bondoberflächen zu erarbeiten, der als Grundlage für die Erstellung eines industriell anerkannten, internationalen Standards dient.
Sauberkeit – ein qualitätsentscheidender Faktor
Da die Verbindungsbildung sowohl beim Dünn- als auch beim Dickdrahtbonden im Nanometerbereich erfolgt, müssen die zu kontaktierenden Metalle in einen atomaren Abstand zueinander gebracht werden. Entsprechend können Verunreinigungen oder Zwischenschichten bereits im Bereich von 5 bis 10 nm den Bondprozess behindern. Es handelt sich dabei beispielsweise um Fingerabdrücke, ausblutende Kleber, Flussmittelrückstände, Ausgasungen von Klebern und anderen Polymeren, Staub, Oxide oder Rückstände aus insbesondere nasschemischen Reinigungsprozessen.
„Optisch erkennbare Kontaminationen sind kritisch fürs Bonden. Sind diese Verschmutzungen nach der Reinigung optisch nicht mehr da, ist die Bondfläche normalerweise ausreichend sauber. Dies lässt sich in der Regel mit Hilfe eines Mikroskops und einem optischen Vorher-Nachher-Vergleich feststellen. Bereits damit lässt sich die Erfolgsquote um das Drei- bis Vierfache erhöhen“, erklärt Schmitz.
Schnee- vs. Trockeneisstrahlen
Die Schneestrahltechnik unterscheidet sich vom Trockeneisstrahlen durch die Größe und Wirkung des Strahlmediums. Während beim Trockeneisstrahlen feste CO₂-Pellets mit Druckluft beschleunigt werden, entsteht beim quattroClean-Verfahren der feine CO₂-Schnee erst beim Entspannen des flüssigen Kohlendioxids an der Düse. Ein Druckluft-Mantelstrahl bündelt die Schneekristalle und richtet sie gezielt auf die zu reinigende Oberfläche. Das Verfahren kombiniert mechanische und thermische Effekte mit der Sublimation des CO₂ und einem Lösemitteleffekt. Der feine, fokussierbare Strahl ermöglicht eine vergleichsweise schonende Reinigung empfindlicher Bauteile. Es verbleiben keine Strahlmittelrückstände auf dem Werkstück. Reinraumgerechte Anlagen sind verfügbar.
Verfahren für die Reinigung von Bondflächen
Klassischerweise werden Bondflächen nach wie vor in nasschemischen Verfahren mit Lösemitteln oder wasserbasierten Medien gereinigt, die eine energieintensive Trocknung erfordern. Die Plasmareinigung kann bei dünnen, bekannten und sehr spezifischen Kontaminationen eingesetzt werden.
Eine weitere Alternative stellt die Laserreinigung dar. „Bei sehr sensiblen Oberflächen, beispielsweise in der Mikroelektronik, müssen allerdings zunächst die Kosten für ein Lasersystem und die passende Lasertechnologie in Übereinstimmung gebracht werden“, beschreibt Schmitz. „Im aktuellen Interesse der Industrie liegt die quattroClean-Schneestrahlreinigung, da sich damit auch stärker haftende, verkrustete Verunreinigungen entfernen lassen.“
Stand: 08.12.2025
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Trockene, gezielte und nachhaltige Reinigung
Bei der skalierbaren und reinraumfähigen Schneestrahltechnik quattroClean handelt es sich um ein trockenes Reinigungsverfahren für ganzflächige und lokale Anwendungen. Das Verfahren eignet sich, um partikuläre Verunreinigungen bis in den Submikrometer-Bereich und filmische Kontaminationen bis hin zu Nanolagen reproduzierbar zu entfernen. Als Reinigungsmedium nutzt das Verfahren flüssiges, aus chemischen Produktionsprozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse recyceltes, aufbereitetes Kohlendioxid.
Es wird durch eine flexibel anpassbare, verschleißfreie Zweistoff-Ringdüse geleitet und entspannt beim Austritt zu feinen Schneekristallen, die von einem separaten Druckluft-Mantelstrahl gebündelt und mit Überschallgeschwindigkeit auf die zu reinigende Oberfläche aufgebracht wird. Die Reinigungswirkung basiert auf einer Kombination aus thermischem, mechanischem, Lösemittel- und Sublimationseffekt. Da das kristalline Kohlendioxid während des Prozesses vollständig sublimiert, sind die behandelten Flächen trocken.
Entfernte Kontaminationen werden zusammen mit dem Prozessgas abgesaugt, eine Rückverschmutzung der Oberflächen sowie Verunreinigung der Umgebung werden verhindert. In Kombination mit Prozessgas von Linde verfügt das effektive quattroClean-Verfahren über das Green Screen-Zertifikat für Reiniger und Entfetter der Clean Production Action.
Reinigungstechnologie für ein breites Anwendungsspektrum
Die geringe Härte der feinen Schneekristalle ermöglicht die Reinigung auch von sehr sensiblen und fein strukturierten Oberflächen. Dies eröffnet der Schneestrahltechnik ein sehr breites Anwendungsgebiet. Das Verfahren ist unter anderem für die Entfernung von Flussmitteln und Lötrückständen auf PCB und PCBA, die Entfernung von chemischen und partikulären Verunreinigungen auf Bondpads sowie der Reinigung von Batteriezellen vor dem Kontaktieren im Einsatz.
„Auf Leiterplatten, bei denen oft eine Mischung aus organischen Rückständen wie Fetten, Fingerabdrücken, Flussmittel oder Rückständen aus nasschemischen Reinigungsprozessen vorhanden ist, kann das Verfahren sehr effizient eingesetzt werden. Sehr gute Ergebnisse haben wir darüber hinaus auf Halbleitern und bei Gehäusen, die aus galvanischen oder anderen nasschemischen Prozessen kommen, erzielen können“, berichtet Schmitz.
Dazu trägt die vergleichsweise einfach durchzuführende Automatisierung der Reinigung bzw. deren Integration in Fertigungslinien bei. „Daraus resultieren zwei Vorteile. So sorgt die automatisierte Reinigung für reproduzierbar homogene Ergebnisse. Wird die Reinigung in den Herstellprozess eingebunden, kann die frisch vorliegende Verunreinigung direkt entfernt werden, bevor sie durch Lagerprozesse zu einem größeren Problem wird.“ (kr)
* Doris Schulz ist Journalistin bei SCHULZ. PRESSE. TEXT. in Korntal.