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Neuer Ansatz für EUV-Lithographie: Effizienter und günstiger als ASMLs Standard

Links ist das derzeit verwendete Standardmodell der Industrie. Rechts ist das OIST-Modell zu sehen. Die Innovation zeichnet sich durch eine deutlich bessere Stabilität und Wartungsfreundlichkeit aus, da sie mit nur zwei Spiegeln auskommt und eine Lichtquelle von nur 20 W benötigt, was den Gesamtstromverbrauch des Systems auf weniger als 100 kW senkt - ein Zehntel im Vergleich zu herkömmlichen Technologien, die oft mehr als 1 MW (= 1.000 kW) für den Betrieb benötigen. Das neue System behält einen sehr hohen Kontrast bei und reduziert gleichzeitig die 3D-Effekte der Maske, indem es die für die genaue Übertragung der logischen Muster von der Fotomaske auf den Siliziumwafer erforderliche Nanometerpräzision erreicht. (Bild: OIST /Tsumoru Shintake) arrow forward Image Zoom
Links ist das derzeit verwendete Standardmodell der Industrie. Rechts ist das OIST-Modell zu sehen. Die Innovation zeichnet sich durch eine deutlich bessere Stabilität und Wartungsfreundlichkeit aus, da sie mit nur zwei Spiegeln auskommt und eine Lichtquelle von nur 20 W benötigt, was den Gesamtstromverbrauch des Systems auf weniger als 100 kW senkt - ein Zehntel im Vergleich zu herkömmlichen Technologien, die oft mehr als 1 MW (= 1.000 kW) für den Betrieb benötigen. Das neue System behält einen sehr hohen Kontrast bei und reduziert gleichzeitig die 3D-Effekte der Maske, indem es die für die genaue Übertragung der logischen Muster von der Fotomaske auf den Siliziumwafer erforderliche Nanometerpräzision erreicht. (Bild: OIST /Tsumoru Shintake)
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