Georgia Tech Nanolithographie malt die Mona Lisa auf ein 30-Mikrometer-Substrat

Mit einer Fertigungstechnik, die für künftige Halbleiter-Technologien von großer Bedeutung sein könnte, habe Wissenschaftler des Georgia Tech das Bild der Mona Lisa auf ein Substrat von 30 Mikrometern Durchmesser "gemalt".

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Das berühmteste Gemälde der Welt wurde jetzt auf der wohl kleinsten Leinwand der Welt reproduziert. Eine Forschergruppe am Georgia Institute of Technology ist es gelungen, das Bild der Mona Lisa auf einem Substrat von nur 30 Mikrometern Durchmesser zu erzeugen – einem Drittel der Stärke eines menschlichen Haares.

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Sie verwendeten für ihre "Mini Lisa" ein Rasterkraftmikroskop und einen Prozess namens Themo Chemical Nano Lithography (TCNL). Dabei wird die Spitze des Rasterkraftmikroskops über einer bestimmten Stelle des Substrats erhitzt und damit eine chemische Reaktion auf der Oberfläche des Substrats in Gang gesetzt. Je größer die Hitze, desto mehr neue Moleküle entstehen durch den Prozess an dieser Stelle und umso heller die Stelle.

Auf diese Weise erzeugte der Doktorand Keith Carroll die Mini-Lisa aus lauter einzelnen Graustufen-Pixeln im Format von 125 Nanometern (Millionstel Millimeter). Das Bild ist natürlich nur ein Proof of Concept, die Forscher um die Professorin Jennifer Curtis sehen aber eine Vielzahl praktischer Anwendungen in der Elektronik: "Man könnte mit dem Prozess beispielsweise die Leitfähigkeit auf einer Graphen-Schicht steuern, um so nanoelektronische Schaltkreise zu erzeugen."

Derzeit arbeitet die Gruppe an einem Rasterkraft-Elektronenmikroskop, das mit fünf statt nur einer Spitze ausgestattet ist, um die Geschwindigkeit des Prozesses zu erhöhen.

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