Innenansicht der TSMC-Fab 3. Berichtebn aus asiatischen Elektronikmedien zufolge wird der welt führende Foundry-Dienstleister die Lieferung von Chips, die in Prozessen von 7nm oder kleiner gefertigt wurden, an chinesische Kunden komplett aussetzen. (Bild: TSMC)
Auf Drängen der USA

TSMC setzt Lieferungen unter 7nm an China aus

Auftragsfertiger TSMC hat offenbar die Lieferung von Halbleiterprodukten, die in Strukturgrößen unter 7nm gefertigt werden, an chinesische Kunden ausgesetzt. Ursache für die Entscheidung ist das Bekanntwerden von der Existenz fortschrittlicher TSMC-Prozesse in von Huawei eingesetzten KI-Beschleuniger-Chips, die eigentlich Exportverbnoten der Vereinigten Staaten unterliegen.

Weiterlesen
Virtueller Prozessablauf für den Aufbau einer zweireihigen CFET-Architektur: Der mit 3D Coventor simulierte Prozessablauf ging von den Spezifikationen einer „virtuellen“ CFET-Fab aus und projizierte zukünftige Verarbeitungskapazitäten und Designspielräume (H. Kuekner et al., IEDM 2024). Die Detailansicht zeigt ein TEM eines monolithischen CFET-Technologie-Demonstrators, der in der 300-mm-Reinraum-F&E-Einrichtung von imec hergestellt wurde. (Bild: A. Vandooren et al., IEDM 2024)
Standardzellarchitektur

Zweireihige CFET-Technologie für den A7-Technologieknoten

Das belgische Forschungsinstitut imec hat eine neuartige Standardzellenarchitektur für die Halbleiterfertigung in einem 0,7nm-CMOS-A7-Prozess vorgestellt. Die CFET-Architektur, die aus zwei Reihen CFETs mit einer dazwischen liegenden gemeinsamen Leitung für die Signalführung besteht, verspricht die Vereinfachung des Prozesses und eine erhebliche Reduzierung der Logik- und SRAM-Zellenfläche.

Weiterlesen
Der Maskless Aligner MLA 300 in der sauberen Produktionsumgebung, unmittelbar vor dem Einschleusen in die Sauberräume, wo unter kontrollierten Umgebungsbedingungen die optischen Komponenten montiert werden, und die Inbetriebnahme stattfindet. Im Vordergrund der Chiller zur Systemtemperierung. (Bild: Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH)
Heidelberg Instruments und SMC

Effiziente Kühl- und Pneumatiklösungen für den Maskless Aligner MLA 300

Eine moderne Industrie ist ohne Halbleiter, Sensoren und optische Bauelemente mit Mikro- und Nanostrukturen undenkbar. Zur Erzeugung von Mikro- und Nanostrukturen auf Substraten wird zunehmend das Verfahren der direktschreibenden, maskenlosen Laserlithografie verwendet. Die Anlagen müssen ihre Aufgaben präzise, leistungsgerecht und zuverlässig erfüllen. Wie ein Komplettpaket mit Pneumatik-Komponenten, Ionisierer und Chiller die Balance bezüglich Preis-Leistungs-Verhältnis und Energieverbrauch schafft, verdeutlicht ein Kundenprojekt von SMC.

Weiterlesen