Teures Halbleiter-Souvenir "High-NA-EUVL für Mini-Preis": ASML stellt Lego-Modell der Twinscan EXE:5000 vor

Von Manuel Christa 1 min Lesedauer

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Im Markenshop des niederländischen Halbleiterherstellers ASML gibt es nun ein Lego-Modell seiner Lithografiemaschine Twinscan EXE:5000 zu kaufen. Weil es sich um ein limitiertes Sammlerstück handelt, ist das Klemmbaustein-Set selbst für Lego-Verhältnisse ziemlich teuer.

Auch als Lego-Set relativ teuer: die Lithographiemaschine Twinscan EXE:5000.(Bild:  ASML)
Auch als Lego-Set relativ teuer: die Lithographiemaschine Twinscan EXE:5000.
(Bild: ASML)

Das Set der Twinscan EXE:5000 besteht aus 851 Teilen und misst 35,2 x 9,9 x 6,4 cm. Es ist für 228 US-Dollar erhältlich und kann derzeit nur in den USA bestellt werden. Dabei handelt es sich bereits um die dritte ASML-Maschine als Lego-Set, welches Designer Rick Lenssen entworfen hat.

Ein teurer Sammler-Spaß

228 US-Dollar kostet das Set, dafür sei es limitiert und kann nur einmal pro Person bestellt werden. ASML versichert, dass es sich um originale Lego-Steine handelt, obwohl das Set nicht im offiziellen Lego-Shop erhältlich ist. Der hohe Preis des Sets entspricht einem Teilewert von 25,4 Eurocent, was verglichen mit anderen originalen Lego-Sets relativ teuer ist.

Technische Details zur (echten) Maschine

Die Twinscan EXE:5000 ist eine der neuesten Maschinen von ASML und wird zur Herstellung von Prozessoren verwendet. Sie nutzt extrem ultraviolettes (EUV) Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern, um Wafer zu belichten. Diese Maschine kann bis zu 185 Wafer pro Stunde bearbeiten und erreicht eine maximale Auflösung von acht Nanometern. Intel setzt sie Maschine in seiner Fabrik in Oregon ein. Die echte Maschine ist so groß, dass sie in 43 Frachtcontainern angeliefert wurde.

ASML ist weltweit führender Hersteller von Lithografiemaschinen, die für die Produktion moderner Halbleiter unerlässlich sind. Die Twinscan EXE:5000 ist die erste Maschine mit einer numerischen Apertur von 0,55 (High-NA), was eine höhere Auflösung und damit eine höhere Transistordichte ermöglicht. Diese Technologie ist relevant für die Herstellung der neuesten Generation von Mikrochips.

(mc)

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