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High-NA-EUVL Mit ASMLs neuer EXE-Generation ist High-NA-EUVL reif für die Praxis

Von Susanne Braun 2 min Lesedauer

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ASML, Schlüsselzulieferer der Chipindustrie, bestätigte im Rahmen des Finanzberichts des zweiten Quartals 2025 die Auslieferung des ersten EXE:5200B-Systems für die High-NA-EUV-Lithografie. Damit soll High-NA-EUVL reif für die Serienproduktion sein.

Die neue Generation der EXE-Serie, Modell 5200, verspricht einen Produktivitätsschub von 60 Prozent gegenüber der EXE:5000, so ASMLs CEO Christophe Fouquet.(Bild: ASML)
Die neue Generation der EXE-Serie, Modell 5200, verspricht einen Produktivitätsschub von 60 Prozent gegenüber der EXE:5000, so ASMLs CEO Christophe Fouquet.
(Bild: ASML)

ASML gilt als zentraler Ausrüster der größten Chipproduzenten weltweit. Und einer der Chiphersteller, die auf die von ASML getriebene Entwicklung mit High-NA-EUVL (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet Lithography) setzen, ist Intel.

In die Intel-Hallen in Hillsboro, Oregon, wurden bislang einige der modernsten Lithografiemaschinen weltweit geschickt, Geräte der Modellreihe Twinscan EXE:5000. Berichten zufolge ist Intel ebenso der erste Kunde, der mit der neuen Generation dieser hochkomplexen Maschinen beliefert wurde, dem EXE:5200B-System. Den Versand des ersten Systems im Q1 2025 haben die Verantwortlichen im Finanzbericht zum zweiten Quartal 2025 von ASML festgehalten.

High-NA-EUVL reif für die Großserienfertigung

„Nach zehn Jahren der Entwicklung an High-NA-EUVL sind die Maschinen von ASML bereit für die Serienproduktion“, heißt es in einem Bericht von Tweakers. Die EXE:5000-Systeme dienten vorwiegend Testproduktionen und Forschung, mit den EXE:5200B-Maschinen soll es nun möglich sein, die Produktivität um 60 Prozent zu steigern. Darüber sprach Christophe Fouquet, CEO von ASML, in der an den Earnings Call anschließenden Fragerunde mit den Investoren (Seite 4).

„Wir haben unser erstes EXE:5200 ausgeliefert, das Werkzeug, das in der Großserienfertigung eingesetzt werden soll. Das Gerät wird gerade installiert. Zur Erinnerung: Das wird unseren Kunden eine Produktivitätssteigerung von 60 Prozent im Vergleich zur EXE:5000 bieten. Wir sprechen also von über 175 WPH [Anm. d. Red.: Wafer pro Stunde]. Wir beginnen jetzt auch mit den Vorbereitungen für den Einsatz in der Großserienfertigung“, so Fouquet.

Der EXE:5000 wurde eine WPH von 185 unter Idealbedingungen nachgesagt. Bei Fouquets Aussage hinsichtlich der WPH der EXE:5200 dürfte es sich um realistische Netto-Werte unter Produktionsbedingungen handeln. Wie viele Wafer eine EXE:5200 tatsächlich pro Stunde ausspucken wird, werden dann künftig die Kunden verraten können.

Bis erste Chips auf den Markt kommen, die mit der EXE:5200 belichtet wurden, dürfte es noch etwas dauern. Denn wann und wie schnell die neue High-NA-Technologie produktiv eingesetzt wird, hängt von den Kunden selbst ab. Bei Intel etwa ist der erste Einsatz im Rahmen von Risikoproduktionen für den hauseigenen 14A-Fertigungsprozess für das Jahr 2027 geplant. (sb)

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