Halbleiterproduktion BASF liefert ab 2027 Schwefelsäure in Halbleiterqualität aus Ludwigshafen

Von Susanne Braun 1 min Lesedauer

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Um dem steigenden Bedarf an hochreinen Ressourcen für die Herstellung von Chips gerecht zu werden, hat der Chemiekonzern BASF die Errichtung einer Schwefelsäure-Anlage in Ludwigshafen beschlossen. Die Anlage soll ab spätestens 2027 produzieren.

Labormitarbeiter von BASF testen die Benetzungseigenschaften eines Siliziumwafers, nach der Bearbeitung mit Planapur, einem Poliermittel, das Nanopartikel enthält.(BASF SE)
Labormitarbeiter von BASF testen die Benetzungseigenschaften eines Siliziumwafers, nach der Bearbeitung mit Planapur, einem Poliermittel, das Nanopartikel enthält.
(BASF SE)

In der Halbleiterproduktion wird Schwefelsäure (H₂SO₄) primär für Reinigungsprozesse eingesetzt, etwa in Kombination mit Wasserstoffperoxid als sogenannte Piranha-Lösung, um organische Rückstände von Wafern zu entfernen. Zudem wird Schwefelsäure bei bestimmten Ätzprozessen und zur Vorbereitung der Wafer vor Dotierungsschritten genutzt. Dabei kommt ausschließlich ultrareine Schwefelsäure zum Einsatz, da bereits kleinste Verunreinigungen die Chipqualität beeinträchtigen können.

Für Halbleiterprozesse wird hochreine Schwefelsäure (electronic grade) benötigt, die unter strengen Bedingungen gereinigt und verpackt wird; häufig durch zusätzliche Destillation, Filtration und unter Reinraumbedingungen. Spezialisierte Chemieunternehmen wie BASF liefern solche Produkte, und künftig wird von dem Konzern noch mehr Schwefelsäure geliefert.

Wie im April 2025 angekündigt, investiert BASF einen zweistelligen Millionenbetrag in eine neue Produktionsanlage für Schwefelsäure in Halbleiterqualität in Ludwigshafen. Die Kapazitätserweiterung soll bis spätestens 2027 abgeschlossen sein, um damit dem steigenden Bedarf der Hauptkunden des Unternehmens gerecht zu werden. (sb)

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