Halbleiterchemie BASF investiert in Anlage für „Electronic Grade“ Ammoniumhydroxid

Von Susanne Braun 1 min Lesedauer

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Um die Produktion von Materialien für die Halbleiterproduktion in Europa zu stärken, investiert BASF in eine Anlage für Ammoniumhydroxid in Ludwigshafen. Die hochreine Chemikalie kam bislang meist aus Asien und ist entscheidend für Waferreinigung und Ätzprozesse.

BASFs neue Anlage für Ammoniumhydroxid in Elektronikqualität soll die europäische Halbleiterfertigung resilienter gestalten.(Bild:  BASF SE)
BASFs neue Anlage für Ammoniumhydroxid in Elektronikqualität soll die europäische Halbleiterfertigung resilienter gestalten.
(Bild: BASF SE)

BASF hat Ende Oktober 2025 den Bau einer neuen Anlage für Electronic Grade Ammoniumhydroxid (NH₄OH EG) am Standort Ludwigshafen angekündigt. Das hochreine Material wird in der Waferreinigung, beim Ätzen und in Präzisionsprozessen der Halbleiterfertigung eingesetzt. Die Produktion soll 2027 anlaufen und die wachsende Nachfrage in Europa decken, die durch den Aufbau neuer Chipfabriken steigt. Gleichzeitig beabsichtigt BASF, auf diesem Wege eine lokale Lieferkette aufzubauen, auf deren Zuverlässigkeit sich die europäische Halbleiterfertigung stützen kann.

Ammoniumhydroxid gehört zu den wichtigsten Grundchemikalien in der Halbleiterproduktion: Es entfernt organische Rückstände, Metallionen und Partikel von Siliziumwafern und wird in Ätzlösungen für Strukturen im Nanometerbereich verwendet. Bisher stammten die meisten Lieferungen aus Japan, Südkorea und Taiwan, was europäische Chipprojekte stark von Importen abhängig machte.

„Ammoniumhydroxid Electronic Grade ist unerlässlich für die Fertigung der nächsten Chipgeneration“, so Jens Liebermann, Senior Vice President Electronic Materials bei BASF. „Die Investition verbessert unsere Fähigkeiten und unterstützt das Wachstum der Halbleiterindustrie in Europa.“ Die neue Anlage ist Teil der globalen Strategie von BASF, in Halbleiter-Vorprodukte und Spezialchemikalien zu investieren. Das Unternehmen zählt weltweit zu den führenden Anbietern von hochreinen Chemikalien für Reinigung, Ätzen, Fotolithografie, Metallabscheidung und chemisch-mechanische Planarisierung. (sb)

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