mSAP und SAP-Technologie Meilensteine der Miniaturisierung in der Elektronikindustrie

Ein Gastbeitrag von Linda Lüüs* 6 min Lesedauer

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Ein Blick in die Vergangenheit zeigt eine erstaunliche Entwicklung hin zur Miniaturisierung – eine Zeit, in der Größe nicht nur eine Frage des Maßstabs war, sondern auch ein Zeichen für Innovation.

Vom ersten Transistor bis zu dem heutigen hochkomplexen Mikrochip haben sich die elektronischen Bauteile stetig verkleinert, wobei jede neue Entwicklung, Möglichkeiten und Herausforderungen mit sich brachte. (Bild:  RPtec GmbH)
Vom ersten Transistor bis zu dem heutigen hochkomplexen Mikrochip haben sich die elektronischen Bauteile stetig verkleinert, wobei jede neue Entwicklung, Möglichkeiten und Herausforderungen mit sich brachte.
(Bild: RPtec GmbH)

Bei dieser Entwicklung spielen Technologien wie SAP (Semi-Additive Process) und mSAP (Modified Semi-Additive Process) eine wichtige Rolle. Diese Verfahren haben die Herstellung von Leiterplatten verändert und den Weg für immer leistungsfähigere und kompaktere elektronische Geräte geebnet. Am Ende des Rückblicks werfen wir einen Blick auf die jüngste Entwicklung – die ultradünne Kupferfolie Nanotus, die ein neues Kapitel in der Geschichte der Miniaturisierung aufschlägt. Tauchen Sie mit uns ein in die Welt der Makrodimensionen und entdecken Sie die Möglichkeiten der modernen Technik.

Kurz erklärt

Der Unterschied zwischen mSAP und SAP liegt in den Fertigungstechniken für Leiterplatten. SAP (Semi-Additive Process) verwendet eine dünne Kupferschicht, die maskiert, elektrolytisch verstärkt und geätzt wird, und wird häufig für High-Density Interconnect (HDI) Leiterplatten verwendet. mSAP (modified Semi-Additive Process) ist eine Weiterentwicklung des SAP-Verfahrens mit verbesserten Chemikalien und Prozesskontrollen, die feinere Strukturen (z. B. 15 µm Linien und Abstände) ermöglicht. mSAP eignet sich besonders für hochkompakte und leistungsfähige Elektronik wie moderne Mobilgeräte. Die Leiterbahnen haben eine wesentlich geringere Rauhigkeit des Kupfers hat und damit eine wesentlich geringere Dämpfung, was der Signalintegrität zugutekommt.

Herausforderungen und Hürden der Miniaturisierung

Miniaturisierung der SMD-Bauformen(Bild:  RPtec GmbH)
Miniaturisierung der SMD-Bauformen
(Bild: RPtec GmbH)

Trotz der beeindruckenden Fortschritte in der Miniaturisierung stehen Ingenieure und Wissenschaftler vor erheblichen Herausforderungen. Je kleiner die Komponenten werden, desto schwieriger wird es, ihre Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Eine der größten Hürden ist die Präzision bei der Herstellung winziger Strukturen, die oft nur wenige Nanometer groß sind. Die Herstellungskosten steigen mit zunehmender Komplexität, und die Anforderungen an Reinheit und Materialqualität nehmen zu. Darüber hinaus müssen thermische und elektrische Eigenschaften sorgfältig kontrolliert werden, um Kurzschlüsse und Überhitzung zu vermeiden.

In diesem komplexen Umfeld erfordert jede Innovation nicht nur technisches Know-how, sondern auch kreative Problemlösungen und erhebliche Investitionen in Forschung und Entwicklung. Die Balance zwischen Miniaturisierung und Funktionalität bleibt eine zentrale Herausforderung, die ständige Anpassungen und Fortschritte nötig macht.

Innovationen durch Miniaturisierung, mSAP -und SAP-Technologie

Strukturen auf 300 µm BGA. (Lötstopplack bleibt außen vor).(Bild:  RPtec GmbH)
Strukturen auf 300 µm BGA. (Lötstopplack bleibt außen vor).
(Bild: RPtec GmbH)

Die Miniaturisierung ist ein zentraler Treiber der modernen Elektronik. Sie ermöglicht kompaktere und leistungsfähigere Geräte, die in zahlreichen Anwendungen von Mobiltelefonen über medizinische Geräte bis hin zu Hochleistungscomputern eingesetzt werden. Die fortschreitende Verkleinerung der Komponenten trägt dazu bei, dass immer mehr Funktionen auf kleinerem Raum untergebracht werden können, was zu effizienteren und vielseitigeren Produkten führt.

Ein entscheidender Aspekt hierbei sind Technologien wie SAP (Semi-Additive Process) und mSAP (Modified Semi-Additive Process), die die Herstellung von hochpräzisen und dichten Leiterbahnen ermöglichen. Diese Technologien haben die Grenzen des traditionellen PCB-Designs (Printed Circuit Board) erweitert und eröffnen völlig neue Möglichkeiten für die Elektronikentwicklung. In der Medizin führt dies zur Entwicklung innovativer Mikroimplantate und tragbarer Diagnosesysteme, die präziser und weniger invasiv sind. In der industriellen Automation und im Internet der Dinge (IoT) ermöglicht die Miniaturisierung die Vernetzung zahlreicher Geräte und Sensoren, was zu besser vernetzten Systemen führt.

Die Geschichte der Miniaturisierung

Die Geschichte der Miniaturisierung ist eine faszinierende Reise, die weit zurückreicht und eng mit der Entwicklung der Elektronik verbunden ist. Bereits in den Anfängen der Elektronik gab es Bestrebungen, die Größe von Bauteilen zu reduzieren und damit die Leistung und Effizienz von Geräten zu steigern. Ein wichtiger Meilenstein in dieser Entwicklung war die Einführung integrierter Schaltkreise in den 1950er und 1960er Jahren, die den Grundstein für die moderne Miniaturisierung legten.

In den 1990er Jahren setzte sich ein Standard für Leiterbahnbreiten von 250 bis 300 µm durch. Damals war es eine große Herausforderung, diese Leiterbahnen präzise und zuverlässig herzustellen. Breiten von 50 µm konnten zwar realisiert werden, dies ging jedoch mit einem sehr hohen Ausschuss einher, was die Produktion ineffizient und kostspielig machte. Dennoch trieb der Drang nach immer kleineren und leistungsfähigeren Komponenten die Innovation weiter voran.

Heute, nur wenige Jahrzehnte später, hat sich der Standard deutlich verschoben. Moderne Fertigungstechnologien erlauben es, Leiterbahnbreiten von 125 µm routinemäßig und zuverlässig herzustellen. Noch beeindruckender ist die Fähigkeit, Leiterbahnen mit Breiten von bis zu 10 µm zu realisieren – eine Größenordnung, die damals unvorstellbar war. Diese Fortschritte sind nicht nur das Ergebnis technologischer Innovationen, sondern auch das Resultat intensiver Forschung und Entwicklung.

Der Beginn der SAP- und mSAP-Technologie

mSAP – fine pitch performance.(Bild:  YMT Co. Ltd.)
mSAP – fine pitch performance.
(Bild: YMT Co. Ltd.)

Die kontinuierliche Verkleinerung der Komponenten hat nicht nur die Leistungsfähigkeit elektronischer Geräte erheblich gesteigert, sondern auch die Grundlage für neue Anwendungen und Technologien geschaffen, die unser Leben in vielerlei Hinsicht bereichern.

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Die Entwicklung der SAP- und mSAP-Technologien begann in den späten 1980er und frühen 1990er Jahren, als die Anforderungen an die Miniaturisierung und Leistungsfähigkeit elektronischer Geräte stetig zunahmen. Traditionelle Herstellungsverfahren stießen an ihre Grenzen, da sie nicht in der Lage waren, die zunehmend feineren und komplexeren Leiterbahnen zuverlässig zu produzieren. Es wurde deutlich, dass neue Methoden erforderlich waren, um die steigenden Anforderungen an Präzision und Effizienz zu erfüllen.

SAP, der „Semi-Additive Process“, wurde entwickelt, um diesen Herausforderungen zu begegnen. Er ermöglicht die Herstellung von hochpräzisen und dichten Leiterbahnen und war ein bedeutender Fortschritt in der Leiterplattenproduktion. Im Laufe der Zeit entstand das mSAP-Verfahren, der „Modified Semi-Additive Process“, als Weiterentwicklung von SAP. MSAP bietet noch mehr Flexibilität und Anpassungsfähigkeit, da es das vielseitigere FR4-Basismaterial verwendet, im Gegensatz zum SAP-Verfahren, das auf die Basismaterialien des Unternehmens Ajinomoto beschränkt ist.

Diese Technologien sind entscheidend, um den wachsenden Bedarf an kompakteren und leistungsfähigeren elektronischen Geräten zu decken. Sie ermöglichen es, die Größe der Leiterbahnen weiter zu reduzieren und damit die Funktionalität und Leistungsfähigkeit der Geräte zu erhöhen. Ohne die Fortschritte in der SAP- und mSAP-Technologie wären viele der heutigen hochentwickelten elektronischen Geräte nicht realisierbar.

Einführung und Funktionsweise der mSAP-Technologie

Nanotus im Vergleich zur herkömmlichen Kupferfolie.(Bild:  YMT Co. Ltd.)
Nanotus im Vergleich zur herkömmlichen Kupferfolie.
(Bild: YMT Co. Ltd.)

Der Prozess der mSAP-Technologie beginnt mit der Applikation einer dünnen Kupferschicht auf das Substrat. Anschließend wird eine fotolithografische Maske verwendet, um das gewünschte Leiterbahnmuster zu definieren. Durch elektrolytische Abscheidung wird Kupfer auf die freiliegenden Bereiche der Maske aufgebracht, um die Leiterbahnen zu formen. Nach dem Entfernen der Maske wird überschüssiges Kupfer weggeätzt, wodurch nur die präzise definierten Leiterbahnen übrigbleiben.

Diese Methode ermöglicht die Herstellung von Leiterbahnen mit Breiten und Abständen im Bereich von wenigen Mikrometern, was für die hohe Dichte und Präzision moderner elektronischer Schaltungen unerlässlich ist. Für den gesamten Prozess ist die Integration einer ultradünnen Kupferfolie entscheidend.

Ultradünne Kupferfolie Nanotus

Die ultradünne Kupferfolie Nanotus von YMT Co Ltd stellt einen Durchbruch für die MSAP- und SAP-Technologien dar. Aufgrund ihrer extrem dünnen Beschaffenheit eignet sich diese Folie besonders für die Herstellung von ultrafeinen Leiterbahnen mit höchster Präzision und Effizienz. Nanotus zeichnet sich durch eine spezielle Oberflächenbehandlung aus, die die Haftung auf den Basismaterialien deutlich verbessert. Diese verbesserte Hafteigenschaft lässt sich bildlich mit einem Klettverschluss vergleichen, der eine zuverlässige Verbindung gewährleistet. Dies ermöglicht eine präzisere Platzierung und Strukturierung der Leiterbahnen, was wiederum zu einer höheren Qualität und Leistungsfähigkeit der elektronischen Bauteile führt.

Darüber hinaus verbessert die geringe Rauheit der Nanotus-Oberfläche die Signalübertragung und reduziert Signalverluste, was insbesondere bei Hochfrequenzanwendungen von großem Vorteil ist. Durch die Reduzierung von Störeinflüssen und Signalverlusten können mit Nanotus hergestellte elektronische Geräte und Komponenten eine höhere Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit bieten. Dies unterstreicht die Vielseitigkeit und Innovationskraft der Nanotus-Kupferfolie in modernen technologischen Anwendungen.

Schlussfolgerung für die Elektronikindustrie

Die Fortschritte bei der Miniaturisierung und die ständige Weiterentwicklung der MSAP-Technologien haben die Elektronikindustrie grundlegend verändert und neue Perspektiven für das Design und die Herstellung elektronischer Geräte eröffnet. Die Einführung der ultradünnen Kupferfolie Nanotus stellt einen Meilenstein in dieser Entwicklung dar, da sie erhebliche Vorteile in Bezug auf Präzision, Dichte und Leistung der Leiterbahnen bietet. Diese Innovationen werden die Elektronikindustrie weiter voranbringen und die Entwicklung immer kleinerer und leistungsfähigerer Geräte vorantreiben. (mbf)

* Linda Lüüs ist Assistenz der Geschäftsleitung bei RPtec GmbH.

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