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Fehlerfrei durch bidirektionale Schnittstelle

ECAD-Simulation optimiert den Elektronik-Entwicklungsprozess

Fehlerfrei durch bidirektionale Schnittstelle

ECAD-Simulation optimiert den Elektronik-Entwicklungsprozess

16.09.2024

Erleben Sie im Webinar, wie die bidirektionale ECAD Schnittstelle von Altium zu Ansys Ihren Arbeitsalltag revolutioniert. Die Schnittstelle ermöglicht Ihnen einen automatischen, fehlerfreien Austausch von Daten und Materialparametern.

Zulieferer und Entwickler profitieren gleichermaßen von einer fehlerfreien, automatisierten Datenübertragung ohne manuelle Zwischenschritte. Im Webinar erfahren Sie, wie Sie Ihre Entwicklungsprozesse durch eine bidirektionale ECAD Schnittstelle zwischen Altium und Ansys optimieren. So steigern Sie die Effizienz und die Produktqualität durch Prozesssicherheit. Wir zeigen, wie Sie Ihre Time-to-Market verkürzen, Entwicklungsprozesse automatisieren und gleichzeitig die Qualität Ihrer Produkte steigern. Experten erläutern, wie Sie durch die Schnittstelle Innovationsmanagement und Prozesssicherheit in Ihrer Elektronikentwicklung erreichen.

In unserem Webinar erfahren Sie mehr zur:

  • Nahtlosen Integration: Wie die reibungslose Datenübertragung zwischen Altium und Ansys funktioniert.
  • Automatisierung: Manuelle Arbeitsschritte reduzieren und Time-to-Market beschleunigen.
  • Prozesssicherheit: Fehlerfreie Übertragungen mit unveränderten Materialparametern.
  • Qualitätssteigerung: First-Time-Right-Qualität erreichen und Konstruktionsrichtlinien sowie geltende Normen erfüllen.

Ihre Referenten

Alexander Shalaby

Alexander Shalaby

Business Development Manager RF Electromagnetics
CADFEM Germany GmbH

Frank Weiand

Frank Weiand

Business Development Manager Electromagnetics
CADFEM Germany GmbH

Bildquelle: CADFEM Germany GmbH, CADFEM Germany GmbH

Anbieter des Webinars

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Am Schammacher Feld 37
85567 Grafing b. München
Deutschland

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